射頻濺射沉積（關于射頻濺射沉積簡介）

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1、 射頻濺射沉積，亦稱“濺射鍍膜”。

2、金屬表面涂層技術之一。

3、屬氣相沉積方法。

4、將涂覆用材料制成靶作為陰極,被離子轟擊后濺射出原子或分子,在電場作用下沉積于被鍍工件(底材)表面形成薄膜。

5、射頻濺射是用高頻電磁場來維持輝光放電,產生轟擊離子使濺射不斷進行。

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