研究人員獲得具有高損傷閾值的熔融石英

熔融石英中的激光損傷，特別是紫外線激光損傷，仍然是限制高功率激光系統發展的關鍵問題。熔融石英的傳統加工方法經歷研磨和化學機械拋光(CMP)的過程。該方法耗時費力以獲得超光滑的表面，并且容易引起表面和亞表面缺陷，從而大大降低了熔融二氧化硅的表面損傷閾值。

最近，來自中國科學院上海光學精密機械研究所的研究小組將化學蝕刻和CO 2激光拋光相結合，用于處理熔融石英。化學蝕刻被用于打開研磨的熔融二氧化硅的表面下缺陷。隨后，施加CO 2激光拋光以減小表面粗糙度。

這種組合工藝不僅可以有效地獲得具有低表面粗糙度的超光滑表面，而且可以提高熔融石英的抗損傷性。這項工作發表在《光學快報》上。

通過損傷形態和缺陷分析，表明該組合過程避免了引入表面和亞表面缺陷，包括破壞性缺陷，化學結構缺陷和光敏性精神雜質元素，并獲得了具有較低表面缺陷密度的熔融二氧化硅，從而獲得了更好的抗破壞性。