黃光制程清洗方式有幾種類型的（黃光制程）

大家好，我是小夏，我來為大家解答以上問題。黃光制程清洗方式有幾種類型的，黃光制程很多人還不知道，現在讓我們一起來看看吧！

1、微影 (Lithography) 技術是將光罩 (Mask) 上的主要圖案先轉移至感光材料上，利用光線透過光罩照射在感光材料上，再以溶劑浸泡將感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留，如此所形成的光阻圖案會和光罩完全相同或呈互補。由于微影制程的環境是采用黃光照明而非一般攝影暗房的紅光，所以這一部份的制程常被簡稱為"黃光"。

2、由于IC晶方內之圖案均有賴光阻劑（Photo resist）覆蓋在芯片上，再經曝光，顯影而定型；而此光阻劑遇光線照射，尤其是紫外線（UV）即有曝光之效果，因此在顯影完畢以前之生產，均宜遠離此類光源。黃光之光波較長，使光阻劑曝光之效果很低，因此乃作為顯影前之照明光源。

3、http://www.wshkingpcb.cn/qywh/ShowArticle.asp?ArticleID=5670

4、http://www.shebei114.cn/info/detail/50-4669.html

本文到此講解完畢了，希望對大家有幫助。